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智能系统时代需要功能性…
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Joe Sawicki执行副总裁，导师IC EDA，为EE时间书写：“随着…系统变得更智能，自主的，更紧密的联系，越来越迫切的需要，即使是道德上的命令，…
CMP仿真解决了制造误差。
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SK-Hynix和Mentor联手演示了CMP建模和模拟如何预测由碟形和厚度变化引起的设备损坏。铸造厂可以利用这些信息为设计公司提供…
一个快速和准确的超视距掩模流与口径…
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在大批量生产中，从光刻技术到使用超视距光刻技术的长期承诺正在进行中。尽管仍有几个问题有待解决，唯一没有阻止的问题是…
自对准双图案的精加工
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对不起，但是这篇论文已经不可用了。要了解更多关于自对准双图案技术的信息，请到““
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OPC建模的贝叶斯推理
白皮书
用于光学邻近校正（OPC）的光刻工艺模型正变得越来越精确。在本文中，我们证明了贝叶斯推理作为一种方法的预测能力。
多层VEB模型：捕捉层间腐蚀…
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多模式处理技术要求光学邻近校正和分辨率提高的高精度。在这些过程中，蚀刻偏差越来越依赖于环境和需要更新…
生产面罩成分检查流程
白皮书
传统的mask规则检查（mrc）只识别过程限制，如写入，蚀刻，计量学，等。但是当框架主电路，傻瓜…
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