口径opcPRO

calibre®opcpro™提供复杂集成电路布局的全芯片光学和工艺校正,以增加产量和工艺纬度。使用面向批处理的流,Calibre Opcpro对布局进行更改,以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形。

Calibre Opcpro支持基于规则和模拟的校正的混合,并使用从测量的制造工艺特性开发的光学和工艺模型模拟校正结果。opcpro和nmopc都具有纠正相移布局的能力,包括门的衰减和交替PSM。

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